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| 生産の名前: | gggの基質 | 化学式: | Gd3Ga5O12 |
|---|---|---|---|
| Lattic変数: | a=12.376Å | 次元: | 10mm x 10mm x 0.5mm |
| 密度: | 7.13g/cm3 | Mohsの硬度: | 8.0 |
| 融点: | 1725℃ | R.i.: | 1064nmの1.954 |
| オリエンテーション: | （111） | ポーランド語: | 1つの側面は磨いた |
| ハイライト: | GGGの水晶を育てるエピタキシアル フィルム,半導体エピタキシアルGGGの水晶,半導体エピタキシアルGGGの基質 |
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GGGの基質、ガドリニウム ガリウム ガーネット（GGG）は磁気光学フィルムのための専用されていた基質である。光通信装置では、1.3μを使用して多くの要求すれば1.5μ光学アイソレーターは、中心の部品YIGまたは大きいフィルム磁界に置かれてである。従ってこの磁気光学材料が付いている最もよい格子マッチを達成できる別の接したのGGGの単結晶の基質はYIGを保障して、大きいフィルムのエピタキシアル成長巧妙である。
GGGによく物理的なおよび機械特性および化学安定性がある。GGGは作られたマイクロウェーブ アイソレーターのための最もよい基質材料である。
主な利点:
大きい次元、2.8から76mmから。
低い光学損失（<0>
高い熱伝導性（7.4W m-1K-1）。
高いレーザーの損傷閾値（>1GW/cm2）
主要な特性:
| 化学式 | Gd3Ga5O12 |
| 格子変数 | a=12.376Å |
| 成長方法 | Czochralski |
| 密度 | 7.13g/cm3 |
| Mohsの硬度 | 8.0 |
| 融点 | 1725℃ |
| R.i. | 1064nmの1.954 |
CRYSTROは提供できる:
| オリエンテーション | [111] ±15アーク分の内で |
| 波先のゆがみ | <1> |
| 直径の許容 | ±0.05mm |
| 長さの許容 | ±0.2mm |
| 小さな溝 | 0.10mm@45のº |
| 平坦 | <1> |
| 平行 | < 30="" arc="" Seconds=""> |
| Perpendicularity | < 15="" arc="" min=""> |
| 表面質 | 10/5の傷/発掘 |
| 明確な開き | >90% |
| 水晶の大きい次元 | 直径の2.8-76 mm |
プロダクト映像:
コンタクトパーソン: Chen Dongdong
電話番号: +86 18326013523
ファックス: 86-551-63840588
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