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磁気光学薄膜はGGGの水晶を使用する

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中国 ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd. 認証
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磁気光学薄膜はGGGの水晶を使用する

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大画像 :  磁気光学薄膜はGGGの水晶を使用する

商品の詳細:
起源の場所: 中国
ブランド名: Crystro
証明: ISO9001
モデル番号: CRGGG-1
お支払配送条件:
最小注文数量: 1部分
価格: Negotiable
パッケージの詳細: カートン箱
受渡し時間: 3-4週
支払条件: T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram、PayPal
供給の能力: 1週あたりの100 PC
詳細製品概要
生産の名前: ガリウム ガドリニウムのガーネット(GGG) 化学式: Gd3Ga5O12
Lattic変数: a=12.376Å 成長方法: Czochralski
密度: 7.13g/cm3 Mohsの硬度: 8.0
融点: 1725℃ R.i.: 1064nmの1.954
ハイライト:

Gd3Ga5O12磁気光学GGGの基質

,

Gd3Ga5O12 GGGの光学基質

,

磁気光学GGGの水晶

 

GGGの基質、磁気光学フィルムのためのガドリニウム ガリウム ガーネット基質

 

GGGの基質、ガドリニウム ガリウム ガーネット(GGG)は磁気光学フィルムのための専用されていた基質である。光通信装置では、1.3μを使用して多くの要求すれば1.5μ光学アイソレーターは、中心の部品YIGまたは大きいフィルム磁界に置かれてである。従って磁気光学材料これらのの最もよい格子マッチを達成できる別の接したのGGGの単結晶の基質は、YIGを保障して、大きいフィルムのエピタキシアル成長巧妙である。
GGGによく物理的なおよび機械特性および化学安定性がある。GGGはマイクロウェーブ アイソレーターに作られるのための最もよい基質材料である。

 

主な利点:

 

大きい次元、2.8から76mmから。

低い光学損失(<0>

高い熱伝導性(7.4W m-1K-1)。

高いレーザーの損傷閾値(>1GW/cm2)

 

 

主要な特性:

 

化学式 Gd3Ga5O12
Lattic変数 a=12.376Å
成長方法 Czochralski
密度 7.13g/cm3
Mohsの硬度 8.0
融点 1725℃
R.i. 1064nmの1.954

 

 

 

 

 

 

 

 

 

CRYSTROは提供できる:

 

オリエンテーション [111] ±15アーク分の内で
波先のゆがみ <1>
直径の許容 ±0.05mm
長さの許容 ±0.2mm
小さな溝 0.10mm@45のº
平坦 <1>
平行 < 30="" arc="" Seconds="">
Perpendicularity < 15="" arc="" min="">
表面質 10/5の傷/発掘
明確なApereture >90%
水晶の大きい次元 直径の2.8-76 mm
 

 

 

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連絡先の詳細
ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd.

コンタクトパーソン: Zheng

電話番号: +86 18255496761

ファックス: 86-551-63840588

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